Vörur

Sjálfvirk vélræn efnafræðingarvél

Sjálfvirka vélrænni efnafræðilegri vélin framkvæmir stakt - hliða efnafræðilega vélrænni fægja (CMP) á harðri brothætt efni þar á meðal Sub-8 tommu Si CMP, oxíð CMP (BPSG, TEOS, THOX), málm CMP (W, Cu), dielectric films og STI (grunnur skurðurseining).

Hringdu í okkur

Lögun

Umsókn

Sjálfvirka vélrænni efnafræðilegri vélin framkvæmir stakt - hliða efnafræðilega vélrænni fægja (CMP) á harðri brothætt efni þar á meðal sub - 8 - tommu Si CMP, oxíð CMP (BPSG, TEOS, thox), málm CMP (W, Cu), Dielectric kvikmyndir, og STI (Bundrabs. Forrit. Þetta fullkomlega sjálfvirka CMP-kerfi skilar einnig háu - nákvæmni, hágæða einhliða fægingu fyrir samhliða planar yfirborð safírsbrúna, germanium wafers, litíum niobate og gler undirlag.

Sjálfvirk vélræn efnafræðingarvél

SAP200-4H2P-FA

Líkananúmer		SAP200 - 4H2P-Fa
Fægja diskur	Þvermál	Φ510mm (20 '')
	Númer	2
	Neðri skífuhraði	0-200 rpm
Fægja höfuð	Vinna úr vinnuhlutum	6''/8''
	Þrýstingsaðferð	Sveigjanlegur þrýstingur á loftpúðum (3-svæði þrýstingur)
	Hraði	0-200 rpm
	Númer	4
Precision Index	Neðri endinn hoppar	Minna en eða jafnt og 0,01 mm
Precision Index	Flatness neðri plötunnar	Minna en eða jafnt og 0,008mm
Búnaðarstærð (l * w * h)		3640mm × 2400 mm × 2600 mm
Þyngd tæki		10000kg